Opatentowana analiza technologii tkanin kamuflażowych w podczerwieni
Stosowanie powłok blokujących podczerwień
Powlekanie tkaniny powłoką niskoemisyjną bezpośrednio na jej powierzchni jest prostą i powszechnie przyjętą metodą wytwarzania tkanin kamuflażowych w podczerwieni. Zasadą tej metody jest to, że wyższy współczynnik odbicia prowadzi do niższej emisyjności. Dlatego do produkcji powłok blokujących podczerwień często stosuje się materiały o wysokim współczynniku odbicia, takie jak proszek aluminiowy. Jednakże dodatek płatków aluminium może zwiększyć współczynnik odbicia w świetle widzialnym, wpływając w ten sposób na efekt kamuflażu w widmie widzialnym. Dodatkowo aluminium jest podatne na utlenianie w powietrzu, co znacznie zwiększa jego emisyjność, zmniejszając tym samym skuteczność kamuflażu w podczerwieni.
CN1884394A
Przedstawiamy brązowy, niskoemisyjny pigment w kształcie płytki, emitujący podczerwień, z gęstą warstwą tlenku żelaza pokrytą powierzchnią płatków aluminium. Ta innowacja rozwiązuje problem utleniania proszku aluminiowego, zmienia jego połysk i kolor w świetle widzialnym oraz zmniejsza jego współczynnik odbicia w świetle widzialnym. Otrzymany pigment blokujący podczerwień osiąga niską emisyjność podczerwieni (długość fali 8-14 μm, emisyjność 0.50-0.65) i nie ma metalicznego połysku;
CN101995187A
Nie używaj taśmy dwustronnej do mocowania panelu świetlnego na zakurzonych, wilgotnych, tapetowanych lub nierównych powierzchniach, takich jak cegły, surowe drewno lub szorstkie ściany betonowe; Ujawniono zintegrowaną strukturę ukrywającą się w podczerwieni i radarze. Warstwa ukrywająca podczerwień składa się z powłoki ukrywającej podczerwień i cienkowarstwowego materiału kompozytowego ITO napylanego magnetronem na jej powierzchni. Powłoka ukrywająca podczerwień składa się ze środka tworzącego warstwę, wypełniacza odblaskowego i rozpuszczalnika, przy czym wypełniacz odblaskowy zawiera ITO, proszek aluminiowy i tlenek cynku;
CN102399488A
Wprowadzono niewidoczną powłokę kamuflażową o wysokim spektrum, wykorzystującą domieszkowany materiał półprzewodnikowy domieszkowany cyną tlenek indu (GAZO) i proszek kwarcowy jako wypełniacze pomocnicze. Powłoka ta charakteryzuje się niską emisyjnością widmową i doskonałą wydajnością w zakresie niewidoczności w wysokich widmach;
CN105040469A
Mikrosfery szklane miesza się z materiałami o przemianie fazowej w postaci mikrokapsułek, tworząc powłokę o powierzchni o niskiej emisyjności, w której różne części powłoki wykazują różne charakterystyki emisyjności. To połączenie powierzchni o niskiej emisyjności i nierównomiernej charakterystyki emisji skutecznie pozwala uzyskać termiczny kamuflaż w podczerwieni. Do materiałów magazynujących energię o przemianie fazowej w mikrokapsułkach zalicza się głównie tetradekan, oktadekan, parafinę i grafit ekspandowany.
CN102757676A
Proszek GAZO w skali nano jest wytwarzany z galu (Ga), glinu (Al), tlenku galu (Ga2O3), tlenku glinu (Al2O3) i tlenku cynku (ZnO), a następnie przetwarzany w niskoemisyjne nanopowłoki. Powłoki te można nakładać na tkaniny, dzianiny, włókniny lub powierzchnie ze skóry syntetycznej za pomocą druku cyfrowego, sitodruku, skrobania, natryskiwania lub zanurzania wałków. Po wysuszeniu lub prasowaniu na gorąco powstaje tkanina posiadająca zdolność ukrywania się w podczerwieni, która nadaje się do wykonywania odzieży do kamuflażu termicznego w podczerwieni, siatek kamuflażowych i namiotów. Zachowują właściwości fizyczne i chemiczne oryginalnych produktów i są kompatybilne ze światłem widzialnym, bliską podczerwienią (długość fali 0.38-2.5 μm) i podczerwień (długość fali 8-14 μm) wielo- widmowe ukrywanie się bez wpływu na komfort noszenia.
CN102417771A
Wprowadzono powłokę ukrywającą podczerwień z trzema różnymi materiałami o przemianie fazowej o różnych zakresach temperatur zmiany fazowej jako materiał rdzenia i kapsułkę z żywicy melaminowo-formaldehydowej jako materiał ścianki. Te mikrokapsułki są dodawane do powłoki ukrywającej podczerwień w drodze polimeryzacji na miejscu i działają jak materiały kontrolujące temperaturę, regulując emisyjność w zakresie temperatur około 10-60 stopnia, aby uzyskać efekt kamuflażu w podczerwieni. Powłoka ta rozwiązuje problemy związane z niską emisyjnością materiałów ukrywających się w podczerwieni, które są niekompatybilne ze światłem widzialnym i pasmami radarowymi, słabą tolerancją na zanieczyszczenia oraz podatnością na zwiększoną emisyjność pyłu i wilgoci, co może zmniejszyć efekt ukrywania się.